光刻机：进展如何？

光刻机的进展正在经历一场从2到3的跨越，国产光刻机的发展备受关注。那么，光刻机到底缺不缺呢？其实答案既有缺口，也不缺。

光刻机分为DUV和EUV两种类型。日本和欧洲仍在稳定供应DUV光刻机，这是他们在20多年前独立发明的技术，足以满足当前国产fab在28nm附近的制造需求。对于目前的成熟工艺来说，我们并不缺乏光刻机。

对于先进工艺来说，我们却缺乏光刻机。尤其是EUV光刻机，由于涉及到美国人发明的技术，严格禁运。当欧洲和日本的支柱产业汽车面临来自中国车企的强劲竞争时，高价值的光刻机成为了重要的战略资源。中国车企的崛起，让传统列强无法再轻松赚钱，他们一定会团结起来保护自己的市场份额。对于追求更高精度的工艺制造来说，我们急需更多的光刻机支持。

短期看，我们并不缺乏光刻机，但从长远来看，随着技术的不断进步和需求的不断增长，光刻机的缺口将会越来越大。我们需要加大技术研发力度，提高自主制造能力，以应对未来对光刻机的需求。这是一场时间紧迫、任重道远的征程，但我们有理由相信未来一定会取得更大的进展。

光刻机是制造业的核心设备之一，对于推动我国制造业的发展具有重要意义。虽然目前我们在某些方面还存在缺口，但是随着技术的不断进步和政策的不断扶持，我们一定能够在光刻机领域取得更大的突破和进展。