国外光刻胶巨头产能受限国产替代�***伲×芬讶� 还有哪些好
今日早盘，彤程新材（股票代码：603650）持续展现强势走势。开盘后虽有短暂震荡，但随后直线拉升，成功走出三连板，自5月24日起涨幅已近50%。
全球光刻胶市场正面临供需紧张的局势。由于全球五大光刻胶生产企业之一的信越化学KrF光刻胶福岛工厂因地震而关闭，限制了全球光刻胶的产能与对华出口。随着全球晶圆厂的新增产能不断提升，对光刻胶的需求急剧增长，导致光刻胶供应持续紧张。预计到2024年，全球将新增22座8英寸晶圆厂，月产能预计达到660万片。
在中国大陆，晶圆厂建设也进入高速增长期，未来五年将新建至少29座晶圆厂。光刻胶行业呈现高度的技术壁垒和寡头垄断格局，目前前五大厂商占据了全球光刻胶市场87%的份额。国内半导体光刻胶技术与国外先进技术存在较大差距，尤其是在高端光刻胶领域，国产化率极低。
在这样的大背景下，国内光刻胶行业正在�***僮犯稀Ｍ绦虏淖魑幸的诘囊患伊炀笠担丫咴诹斯娲那傲小Ｆ淙首庸就痰缱油蹲�5.7亿元在上海建设年产1.1万吨的半导体、平板显示用光刻胶项目，预计于2021年末建成投产。目前，北京科华已实现i线光刻胶500吨/年、KrF光刻胶产能10吨/年的规模，并在极紫外（EUV）光刻胶项目中取得突破。
除此之外，南大光电也在光刻胶领域取得了显著进展。其已经建成年产25吨193nm（ArF）光刻胶，并且研发团队实力强大。还有若干家企业如瑞红等也在光刻胶领域拥有一定实力和进展。这些企业在国产替代的道路上扮演着重要角色。其中，“谁能在国产替代中拔得头筹”这一问题引发广泛关注。让我们拭目以待这些企业能否在未来的市场竞争中脱颖而出。
在这个行业里，“革命尚未成功”，但我们看到国内企业已经在追赶的路上取得显著进展。尤其值得一提的是彤程新材和南大光电这两家企业。它们在光刻胶本土化的道路上无疑走在了前列。这些企业的努力和突破为国内半导体产业的发展注入了新的活力，也让我们看到了国产替代的希望和未来。在我国芯片制造领域，光刻胶自给率的问题一直是一个紧迫的挑战。其中，g线/i线光刻胶自给率大约为20%，KrF光刻胶的自给率不足5%，而高端的ArF光刻胶几乎完全依赖进口，这对我国芯片产业发展形成了巨大的风险，犹如“卡脖子”一般制约我们的进步。
值得振奋的是，南大光电在自主创新研发的道路上不断取得突破。五月末，南大光电发布公告，其控股子公司宁波南大光电自主研发的ArF光刻胶产品，在经历了一段长时间的研发和试验后，再次取得了重大的进展。
去年十二月，宁波南大光电的ArF光刻胶已经成功通过了一家存储芯片制造企业的50nm闪存平台认证。而最近，他们又成功获得了逻辑芯片制造企业55nm技术节点的产品认证。这一系列的突破，标志着南大光电已经成为国内首个通过产品验证的国产ArF光刻胶，打破了国内先进光刻胶长期依赖进口的僵局。
南大光电一直走在技术的前沿，目前已经完成了两条光刻胶生产线的建设，预计未来的光刻胶年产能将达到25吨，其中包括干式5吨和浸没式20吨。这一重大进展，无疑将极大地推动我国芯片制造业的发展，减轻对进口光刻胶的依赖，使我们在全球芯片产业中更具竞争力。
这一系列喜人的成就，不仅彰显了南大光电在科技研发上的实力和决心，更是对我国芯片制造业自主创新能力的肯定。南大光电的成功，让我们看到了国内芯片产业自主发展的希望，也让我们更加期待未来我国芯片产业的更多突破和创新。
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