我国芯片制造“卡脖子”技术实现突破,国产芯片题材概念股可关注

据科技日报报道，武汉光电国家研究中心的棕松团队在近日的科研攻关中，以坚定的决心和精湛的技艺，打破了传统光刻技术的壁垒。该团队成功采用两束激光在自主研发的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制，并运用远场光学的方法，成功光刻出最小线宽仅9纳米的线段。这一创新不仅实现了超分辨成像的突破，更是将超衍射极限光刻制造推向了新的高度。

甘棕松团队的努力不仅于此，他们不仅自主开发了多种光刻胶，更实现了光刻样机系统关键零部件的国产化，这意味着我国在集成电路制造领域迈出了一大步。在国际上，光刻机是集成电路生产制造过程中的核心设备，尤其在深紫外（DUV）和极紫外（EUV）领域，荷兰ASML公司的光刻机技术一直领先全球。甘棕松团队在没有可借鉴的技术背景下，以全新的光制造路径，打破了国外在三维微纳光制造领域的技术垄断。这一成果涵盖了材料、软件到光机电零部件等全方位的技术自立，预示我国在集成电路制造领域将不再受制于人。

在解决制造速度等核心问题后，甘棕松团队的技术有望广泛应用于集成电路制造领域。这一创新不仅展示了我国科研人员的卓越才华和不懈努力，更是为我国集成电路制造业的发展注入了新的活力。随着技术的不断成熟和完善，未来必将推动我国集成电路制造业的跨越式发展。

在此，国产芯片题材概念股也值得关注。例如，国内领先的微纳结构产品制造和技术服务商【、】（股票代码：300331），其微纳光刻设备已达到国际先进水平。该公司可为光子晶体、半导体功率芯片、MEMS等领域的研发和制备提供前沿且实用的纳米光刻工具。【、】（股票代码：002426）在互动平台表示，公司光刻机产业化项目已经取得显著进展。该项目不仅用于生产光刻机成套装备，更具备将业务延伸拓展至光刻机产线整体解决方案的技术实力。随着这些企业的发展壮大，它们将成为推动我国集成电路制造业发展的强大动力。