彤程新材拟投资6.98亿元建ArF高端光刻胶研发平台 2025年建完

日期：8月16日

重磅消息，【】携手上海彤程电子材料有限公司（子公司），正式宣布一项重大投资项目。该项目拟在上海化学工业区投入自筹资金高达6.9853亿元，全力打造“ArF高端光刻胶研发平台建设项目”，目标是在2023年底完成建设。

这一项目的启动，标志着我们在电子材料领域的业务布局进一步深化，致力于缩小国内光刻胶技术与全球先进水平的差距。项目的主要目标集中在ArF湿法光刻胶的工业化生产技术开发上，建立标准化的生产流程和质量管控体系，以提升高端光刻胶的质量控制水平，并努力实现193nm湿法光刻胶的量产生产。

【】表示，此次投资不仅关乎公司的发展战略，更是对整个行业技术进步的积极贡献。随着集成电路技术的飞速发展，光刻胶作为关键材料，其质量和技术水平直接影响到电子产品的性能。我们希望通过建立先进的集成电路及配套材料开发与应用评价平台，推动整个行业的技术进步。

此次项目的成功实施，将为我们打开新的市场机遇，带动整个产业链的升级。ArF光刻胶的研发与生产，特别是193nm湿法光刻胶的工业化生产技术，将成为公司未来发展的重要驱动力。我们坚信，通过不懈的努力和持续的技术创新，我们必将在电子材料领域取得更大的突破。

让我们共同期待这一项目在不久的将来取得丰硕的成果，引领电子材料领域迈向新的高度。